崗位職責:
1.負責日常工藝異常處理,光刻相關(guān)工藝保障,承擔相應應急 on call 。
2.負責光刻質(zhì)量問題跟蹤,解決工藝線出現(xiàn)的異常,優(yōu)化現(xiàn)有工藝。
3.負責新設(shè)備調(diào)試及新工藝開發(fā)和優(yōu)化。
4.完成領(lǐng)導安排的其他任務。
任職要求:
1.本科及以上學歷,光學、電子工程、半導體物理、應用物理等專業(yè)。
2.3-5年半導體光刻工藝相關(guān)工作經(jīng)驗,有第三代半導體材料光刻工藝經(jīng)驗者優(yōu)先。
3.熟悉 SPC 穩(wěn)定性監(jiān)控、6Siama等相關(guān)知識體系。
4.有較強的光學理論知識,半導體制造工藝知識,實驗設(shè)計知識。
5.熟知 NIKON 、 ASML 、 Tel 、 SUSS 等系列光刻工藝所使用的機臺維護、維修,熟悉 EBEAM 機臺者優(yōu)先。
6.了解半導體芯片制造生產(chǎn)線工作流程。
7.熟悉 MES 系統(tǒng)操作,能熟練閱讀外文機臺操作手冊,外文技術(shù)資料。
8.接受輪班或值班工作制。