任職要求:
1、碩士及以上學(xué)歷,電子、微電子、光學(xué)、物理、集成電路等相關(guān)專業(yè)背景;
2、有超表面、超構(gòu)透鏡、衍射光波導(dǎo)等微納光學(xué)相關(guān)領(lǐng)域研究或工作經(jīng)歷;
3、熟悉光刻工藝的原理,有ArF DUV光刻工藝和設(shè)備操作經(jīng)驗(yàn)(有55nm及以下先進(jìn)制程光刻工藝經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先;有OPC應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先)。
崗位職責(zé):
1、負(fù)責(zé)超表面DUV光刻工藝技術(shù)開發(fā),制定新工藝流程和方法,完成新技術(shù)節(jié)點(diǎn),解決工藝薄弱點(diǎn)并進(jìn)行設(shè)計(jì)優(yōu)化;
2、負(fù)責(zé)超表面DUV光刻工藝的日常管理,包括工藝流程優(yōu)化、解決生產(chǎn)中的異常問題、支持新工藝技術(shù)量產(chǎn)驗(yàn)證、推動工藝標(biāo)準(zhǔn)化和文檔更新完善等;
3、負(fù)責(zé)OPC數(shù)據(jù)分析,OPC模型建立及驗(yàn)證,OPC程序建立及持續(xù)改進(jìn)。