職位描述
顯影工藝曝光工藝TRACK電子/半導(dǎo)體/集成電路
職責(zé)描述：
1. 12寸KrF, ArF涂膠顯影TRACK設(shè)備工藝研發(fā)、測(cè)試與驗(yàn)證；
2. 協(xié)助新研發(fā)Track設(shè)備工藝指標(biāo)以及相關(guān)硬件規(guī)格和標(biāo)準(zhǔn)制定；
3. 參與新研設(shè)備方案設(shè)計(jì)，協(xié)助機(jī)械設(shè)計(jì)部門評(píng)估硬件設(shè)計(jì)方案，配合軟件、電氣部門優(yōu)化邏輯控制；
4. 制定新研設(shè)備工藝驗(yàn)證方案與計(jì)劃，負(fù)責(zé)工藝優(yōu)化與設(shè)備CIP，整理測(cè)試結(jié)果和報(bào)告；
5. 負(fù)責(zé)設(shè)備Inhouse與Infiled測(cè)試與驗(yàn)證，完成和完善checksheet標(biāo)準(zhǔn)doccument；
6. 協(xié)助和參與客戶端服務(wù)團(tuán)隊(duì)新設(shè)備工藝驗(yàn)證，產(chǎn)品驗(yàn)證， 新工藝研發(fā)和應(yīng)用拓展，解決設(shè)備驗(yàn)證和量產(chǎn)過(guò)程中出現(xiàn)的工藝問(wèn)題，并持續(xù)優(yōu)化改進(jìn)；
7. 執(zhí)行工藝部門安排的工作內(nèi)容和計(jì)劃，確保各項(xiàng)計(jì)劃和目標(biāo)按時(shí)完成。
任職要求：
1. 本科及以上學(xué)歷；
2. 3年及以上邏輯，DRAM，3D NAND Fab光刻工藝工作經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先；
3. 熟悉光刻工藝流程，熟悉KrF/ArF Track設(shè)備與工藝，參與過(guò)新設(shè)備調(diào)試與產(chǎn)品驗(yàn)證，熟悉Track工藝菜單編輯；了解常用檢測(cè)設(shè)備類型及相關(guān)使用方法；
4. 具有團(tuán)隊(duì)合作精神；協(xié)調(diào)溝通能力強(qiáng)；
5. 能接受出差；
工作地點(diǎn)
上海浦東新區(qū)盛美半導(dǎo)體研發(fā)與制造中心(臨港)(建設(shè)中)盛美
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職位發(fā)布者
Celine/Supervisor
三日內(nèi)活躍立即溝通
盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司
盛美成立于2005年，是注冊(cè)于上海浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)的外資企業(yè)，已于2017年正式登陸美國(guó)納斯達(dá)克。盛美集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售于一體。由王暉博士帶領(lǐng)的團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)出了具有世界領(lǐng)先的全球?qū)＠Ｗo(hù)的單片SAPS，TEBO兆聲波技術(shù)，高溫硫酸清洗技術(shù)，以及電鍍銅，電拋光技術(shù)。王暉博士畢業(yè)于清華大學(xué)精密儀器系，獲得日本大阪大學(xué)精密工學(xué)科博士學(xué)位，并作為海外高層次歸國(guó)創(chuàng)業(yè)人才入選了國(guó)家“千人計(jì)劃”。盛美主要產(chǎn)品有兆聲波單片清洗設(shè)備，TEBO，背面清洗設(shè)備，無(wú)應(yīng)力拋銅設(shè)備，TSV深孔清洗設(shè)備，干法刻蝕設(shè)備，涂膠機(jī)，顯影機(jī)，去膠機(jī)，腐蝕機(jī)，薄片清洗機(jī)，高溫硫酸清洗設(shè)備，Ultra C Tahoe等。公司具有高新技術(shù)企業(yè)資質(zhì)，承擔(dān)十一五國(guó)家科技重大專項(xiàng)和十二五國(guó)家科技重大專項(xiàng)的研發(fā)。盛美是國(guó)內(nèi)單片清洗設(shè)備的最大供應(yīng)商，現(xiàn)有8，600平米的制造車間，產(chǎn)能50臺(tái)各種設(shè)備/年，可擴(kuò)張至100臺(tái)/年。去年實(shí)現(xiàn)銷售2.4億元，今年預(yù)計(jì)有望實(shí)現(xiàn)銷售成長(zhǎng)90%，創(chuàng)歷史新高。
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