崗位職責(zé):
1. 開發(fā)光刻仿真核心算法(如光源優(yōu)化、掩模修正、工藝窗口分析等),提升模型精度與計算效率;
2. 結(jié)合機(jī)器學(xué)習(xí)/深度學(xué)習(xí)技術(shù),優(yōu)化傳統(tǒng)光刻模型(如OPC、ILT、SRAF生成算法);
3. 針對先進(jìn)工藝開發(fā)多物理場耦合仿真模型;
4. 基于實際晶圓數(shù)據(jù)驗證算法效果,輸出工藝改進(jìn)方案。
任職要求:
1. 計算機(jī)科學(xué)、應(yīng)用數(shù)學(xué)、光學(xué)工程、微電子等相關(guān)專業(yè)碩士及以上學(xué)歷;博士優(yōu)先,有光刻仿真、計算光學(xué)方向研究經(jīng)歷者優(yōu)先;
2. 精通C++/Python編程,熟悉Linux開發(fā)環(huán)境及并行計算框架(MPI/OpenMP);
3. 掌握數(shù)值計算(FFT、PDE求解)、優(yōu)化算法(梯度下降、遺傳算法)及機(jī)器學(xué)習(xí)框架(TensorFlow/PyTorch);
4. 具備優(yōu)秀的英文文獻(xiàn)閱讀能力及技術(shù)文檔撰寫能力;
5. 能適應(yīng)跨部門協(xié)作,具備解決復(fù)雜工程問題的耐心與抗壓能力。