職責(zé)描述:
1、光刻與激光直寫工藝開發(fā): 負(fù)責(zé)光刻和激光直寫工藝的開發(fā)、優(yōu)化與維護(hù),確保工藝的穩(wěn)定性和高效性。
2、光路設(shè)計(jì)與搭建: 根據(jù)項(xiàng)目需求,設(shè)計(jì)并搭建光路系統(tǒng),包括光學(xué)器件的選型、布局和調(diào)試,確保光路系統(tǒng)的性能滿足設(shè)計(jì)要求。
3、 工藝性能提升: 通過(guò)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)(DOE)制定實(shí)驗(yàn)方案,分析實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),持續(xù)提升器件性能和工藝良率。
4、技術(shù)前沿跟蹤: 持續(xù)關(guān)注光刻和激光直寫領(lǐng)域的最新技術(shù)發(fā)展,推動(dòng)新工藝和新技術(shù)的應(yīng)用。
任職要求:
1) 教育背景: 物理、應(yīng)用物理、光學(xué)工程、材料學(xué)等相關(guān)專業(yè)碩士或博士學(xué)歷。3年以上工作經(jīng)驗(yàn)優(yōu)先
2) 專業(yè)技能: o 扎實(shí)的光刻和激光直寫技術(shù)基礎(chǔ),熟悉光刻、電子束直寫工藝。 o 具備光路設(shè)計(jì)與搭建經(jīng)驗(yàn),熟悉光學(xué)器件的選型、布局和調(diào)試。 o 具備微納加工工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn),熟悉鍍膜(如磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等)和刻蝕(如濕法、RIE、ICP等)工藝。
3) 分析與解決問(wèn)題能力: 具備獨(dú)立分析和解決復(fù)雜工藝問(wèn)題的能力,對(duì)挑戰(zhàn)性問(wèn)題充滿熱情。
4) 溝通與團(tuán)隊(duì)合作: 良好的溝通能力和團(tuán)隊(duì)合作精神,能夠與不同部門有效協(xié)作。
5)經(jīng)驗(yàn)要求: 有相關(guān)實(shí)驗(yàn)室實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)或在知名公司/實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行相關(guān)方向?qū)嵙?xí)的經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。
6)其他: 工作細(xì)致,有責(zé)任心,具備良好的學(xué)習(xí)能力和創(chuàng)新意識(shí)。