崗位職責(zé):
1、精通業(yè)界常用涂膠顯影機(jī)臺(tái),Nikon,ASML和Canon光刻機(jī)及濕法刻蝕設(shè)備等操作
2、負(fù)責(zé)工藝recipe建立及優(yōu)化
3、負(fù)責(zé)工藝相關(guān)文件制定
4、負(fù)責(zé)工藝物料管控,BOM制定,新物料測試,降低成本
5、負(fù)責(zé)工藝異常判定與解決,提升產(chǎn)品良率
6、負(fù)責(zé)日常監(jiān)控及管理各工序SPC,inline Cpk 持續(xù)提升,持續(xù)降低返工率
7、配合工藝研發(fā)部門,完成光刻濕法新工藝開發(fā)及導(dǎo)入
8、配合設(shè)備工程師,完成新機(jī)臺(tái)驗(yàn)機(jī)及日常機(jī)臺(tái)maintain
9、領(lǐng)導(dǎo)交代的其他任務(wù)。
任職要求:
1. 本科及以上學(xué)歷,微電子、材料、化學(xué)等相關(guān)專業(yè)或2年及以上黃光濕法工藝工程師工作經(jīng)驗(yàn)
2. 具備良好的光刻工藝調(diào)試優(yōu)化能力
3.知識(shí)技能:1)熟悉半導(dǎo)體fab 流程
2)掌握OFFICE,QC新7大工具,F(xiàn)MEA,PCP,Change等級(jí)管理,ETCH機(jī)臺(tái)操作及原理,量測機(jī)臺(tái)操作及原理。
3)精通黃光工藝,OCAP,SPC,MES系統(tǒng)使用
4)能夠使用 ISO體系流程,PDCA,SMART,MSA,5W1H
4. 素質(zhì):具備抗壓能力,高執(zhí)行力;有創(chuàng)新能力且富有責(zé)任心,具備較好的邏輯思維和報(bào)告水平。